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超純水設備助力國內集成電路產業“芯”開局
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原標題：超純水設備助力國內集成電路產業“芯”開局
2020年，我國集成電路產業規模達到8848億元，“十三五”期間的年均增長率接近20%，是世界同期增長率的4倍。同時，我國集成電路產業在技術創新與市場化上取得了顯著突破，設計工具、制造工藝、封裝技術、核心設備、關鍵材料等方面都有顯著提升。(數據來源：中國工業報)
我國集成電路產業市場巨大，卻備受芯片漲價和供應短缺問題的困擾。據悉，備受關注的芯片漲價和供應短缺問題將在整個2021年持續。大家都知道，我國科技產業在芯片、操作系統這兩大核心技術領域，一直都沒能夠取得太大技術突破。近期，中國移動、OPPO等巨頭公司相繼成立芯片/半導體開發公司。經營范圍均包括集成電路芯片及產品銷售或半導體及其元器件的設計開發等，表明這些公司正式進軍芯片制造領域。
芯片制造又稱晶圓制造，是通過物理、化學工藝步驟在晶圓表面形成器件，并生成金屬導線將器件相互連接形成集成電路的過程。芯片行業在生產過程中對于用水水質的要求很高，所用超純水的質量直接影響芯片效果。
用心制造 放“芯”使用
半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路都需用大量的純水、超純水清洗半成品、成品。超純水設備根據芯片用水要求，采用全自動電去離子超純水處理技術，前置預處理配套使用加反滲透處理，有效去除水中各種鹽份及雜質，進一步提升水質，出水水質完全符合芯片生產用水要求。
超純水設備采用雙反+EDI+拋光混床工藝，而且出水水質上下浮動僅為0.1兆歐，得到了客戶的認可。設備采用膜表面嫁接技術達到更好的脫鹽率；PLC智能化程序方便靈活操作，節省人力投入；新型潔凈循環管道技術保證系統運行無污染物析出，確保系統內無死水；CDI新型電除鹽技術，高頻電子極板形成強電場運行環境，有效提高脫鹽率。
原水經過石英砂過濾器、活性炭過濾器及保安過濾器，然后經過雙級反滲透設備，除去水中溶解鹽類、有機物、膠體、大分子物質等。降低水質的離子含量后，再進入EDI系統，這時的出水電阻率可高于15MΩ·CM，產水進入拋光混床，將水中的離子含量降到PPB級別，此時的出水電阻率可達到18.2MΩ·CM，滿足用戶需求。
創洋電子級超純水設備采用獨有的靶向離子交換系統針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除同時還能連續、穩定地生產高純度的超純水。在晶圓、電子芯片、集成電路、精密儀器、電鍍涂裝、試劑稀釋、氟化工等領域多有應用。
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